射频/等离子源是半导体加工设备的“心脏”。而半导体加工设备的工作原理，使其对驱动它的高频交流源的可靠性、精密度、功率密度、功能性等方面具有非常高的技术要求,技术研发门槛极高。目前我国在该方向的研究积累很薄弱，射频/等离子体源的技术主要掌握在美、日、德等少数国家的少数厂家中，严重制约了我国集成电路装备和产业的自主化和长期发展，是被“卡脖子”的技术。为实现半导体加工装备刻蚀（Etch）设备和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备中核心部件的国产化替代，开发能满足 28—14nm 及更先进工艺需求的射频/等离子源系统。本项目开发的射频电源产品不仅具备同步脉冲、调频等先进功能，同时具备半导设备所需要的高稳定性、高可靠性特征。项目将完成射频/等离子源系统的用户量产验证和产业化，并进入集成电路大规模生产线。为了创造项目实施条件，公司在闵行区浦江镇建立了2200 平米的研发中心和中试线，目前产品处于测试验证阶段；为了支撑进一步的量产规划，公司在临港新片区规划了4300 平米的独栋厂房，计划于2024 年6月正式启用。在项目期内，拟申请不少于10 篇专利，取得核心自主知识产权，并在3年内实现300台以上的销售。 【展开】 【收起】