半导体芯片制造核心设备光刻机技术是各个先进国家竞相争夺的科技制高点，光刻机全球市场被荷兰ASML、日本佳能和尼康三大巨头所垄断。但为了摩尔定律能够延续，半导体制程必须进军亚纳米时代，目前最先进的EUV光刻机都是不能胜任的。我们在日本的研发团队，做出具有独立知识产权的世界首创颠覆性原理创新技术发明，对于曾经获得过3项诺贝尔奖的自1931年由德国物理学家鲁斯卡（Ernst Ruska）设计第一台电子显微镜中电子束产生和聚焦及控制的基本方法做了完全彻底的颠覆性原理创新。本创新技术能产生亚原子尺度束斑的可控电子束丛每次曝光的束斑数量达到100万点素，达到同时分别控制产生数百万点素皮米尺度电子束斑功能，以此技术制成可商业化的亚原子级高产能皮米制程光刻机。 【展开】 【收起】